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在通孔和刻蚀结构中形成并图案化共形绝缘层的方法技术
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下载在通孔和刻蚀结构中形成并图案化共形绝缘层的方法的技术资料
文档序号:8134021
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使用在掩膜层下形成根切轮廓的刻蚀工艺来形成通孔。通孔涂覆有共形绝缘层,且对结构应用刻蚀工艺以从水平表面去除绝缘层,留下在通孔的竖直侧壁上的绝缘层。通孔的顶部区域在回蚀工艺中受到根切硬掩膜的保护。...
该专利属于SPTS科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过SPTS科技有限公司授权不得商用。
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