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本发明提供一种用于浸没光刻的新的光致抗蚀剂组合物。本发明优选的光致抗蚀剂组合物包含一种或多种具有碱反应活性基团的材料。本发明具体优选的光致抗蚀剂组合物可以在浸没光刻工艺过程中降低抗蚀剂材料向与所述抗蚀剂层接触的浸没流体的浸出。...
该专利属于罗门哈斯电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料有限公司授权不得商用。

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