专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
PQ公司
>
用于选择性催化还原的高二氧化硅的菱沸石,其制备方法和用途技术
>技术资料下载
下载用于选择性催化还原的高二氧化硅的菱沸石,其制备方法和用途的技术资料
文档序号:8133283
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了微孔结晶材料,其包含晶体尺寸大于0.5微米并且二氧化硅比氧化铝的比例(SAR)大于15的含金属的菱沸石,其中所述含金属的菱沸石在多达10体积%的水蒸气存在下暴露在高达900℃的温度长达1小时之后保留其初始表面积和微孔体积的至少8...
该专利属于PQ公司所有,仅供学习研究参考,未经过PQ公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。