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半导体二极管制造技术
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文档序号:8131808
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本发明公开一种半导体二极管,包括:半导体基底,具有第一导电型的轻掺杂区;第一重掺杂区,位于所述轻掺杂区内,且具有与所述第一导电型相反的第二导电型;第二重掺杂区,位于所述轻掺杂区内且与所述第一重掺杂区直接接触,其具有所述第一导电型;第一金属硅...
该专利属于联发科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过联发科技股份有限公司授权不得商用。
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