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晶体硅激光辅助铝硼共掺杂及电极制备方法技术
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文档序号:8131679
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一种晶体硅激光辅助铝硼共掺杂及电极制备方法,首先采用磁控溅射法、电子束蒸发法、或丝网印刷法等技术方法在晶体硅表面制备一层铝硼膜层,其中硼含量为0.001wt%-5wt%,优选0.05wt%-1wt%;然后激光照射铝硼膜层使之熔化,同时其底下...
该专利属于南昌大学所有,仅供学习研究参考,未经过南昌大学授权不得商用。
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