下载一种组分可控的ZrOx薄膜的制备方法的技术资料

文档序号:8128541

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本发明属于自旋半导体材料技术领域,具体为一种组分可控的ZrOx薄膜的制备方法。本发明采用纯度为4N的金属锆作为靶材,通过控制反应气体氧气与工作气体氩气(纯度皆为5N)的流量比(代表性的流量比O2:Ar=(4,6,8):35sccm),来改变...
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