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本发明属于薄膜制备领域，具体地说是一种用于制备非晶薄膜的电弧离子镀冷却装置及其应用，冷却装置包括冷凝剂输入管、冷凝剂输出管、法兰盘、绝缘垫圈及样品台，其中法兰盘通过绝缘垫圈密封安装在电弧离子镀炉体上，所述冷凝剂输入管及冷凝剂输出管的一端分别...
该专利属于中国科学院金属研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院金属研究所授权不得商用。

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