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本发明提供了一种用于制作单晶硅太阳能电池选择性发射极的蚀刻胶组合物，组合物组成及含量（质量百分数）为：20～70%的纯水，5～20%的四氢呋喃，5～20%的PVP，0.01～5%非离子表面活性剂聚氧乙烯胺，0.01～5%的渗透剂脂肪醇聚氧乙...该专利属于苏州瑞红电子化学品有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州瑞红电子化学品有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种用于制作单晶硅太阳能电池选择性发射极的蚀刻胶组合物，组合物组成及含量（质量百分数）为：20～70%的纯水，5～20%的四氢呋喃，5～20%的PVP，0.01～5%非离子表面活性剂聚氧乙烯胺，0.01～5%的渗透剂脂肪醇聚氧乙...