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本发明涉及针对掩模适配微光刻的投射曝光设备的方法，该掩模具有在不同的结构方向具有不同节距和/或不同结构宽度的结构，其中通过微光刻的投射曝光设备的操纵器减小由掩模引起的波前像差。...
该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。

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