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本发明提供了一种相移光掩模制作方法。在含有可成形硬膜的第一光刻胶的相移光掩模基板上，通过第一光刻在第一光刻胶中形成第一版图图形结构；在第一光刻胶上涂布固化材料以固化第一光刻胶中第一版图图形的结构，加热使固化材料与第一光刻胶表面反应以形成不溶...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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