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本发明公开了一种含氟的半导体工业中等离子刻蚀残留物清洗液，该清洗液组合物含有：a)有机溶剂?5％～75％；b)水?10％～50％；c)氟化物?0.1％～20％；d)有机胺?0.1％～20％；e)氨基酸?0.1％～10％；f)胍类?0.01％...
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