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一种氮化铝钛介质层低辐射薄膜及其制备工艺，属于功能薄膜技术领域。本发明采用磁控溅射法制备一种氮化铝钛介质层低辐射薄膜，其膜层结构从衬底基片往上依次为：内层氮化铝钛介质层、银层、外层氮化铝钛介质层。该膜层可见光透过率高，红外辐射率低，拥有较长...
该专利属于重庆大学所有，仅供学习研究参考，未经过重庆大学授权不得商用。

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