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一种降低DLC涂层内应力的等离子全方位离子沉积设备，该设备包括真空镀膜室、抽气系统、充气系统、真空检测系统以及高压电源系统，所述真空镀膜室内设有用于放置镀膜工件的绝缘支架，其特征在于，该设备还设置有DLC涂层掺杂装置，所述掺杂装置包括与真空...
该专利属于合肥永信等离子技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥永信等离子技术有限公司授权不得商用。

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