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本发明公开一种金属蚀刻方法,包含下述步骤:对金属膜进行蚀刻并获取该金属膜的蚀刻终点时间;将所述蚀刻终点时间乘以一固定比例而得到所述金属膜的过蚀刻时间;对所述金属膜继续蚀刻所述过蚀刻时间,完成对所述金属膜进行的蚀刻。还公开了一种金属蚀刻控制方...该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。
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本发明公开一种金属蚀刻方法,包含下述步骤:对金属膜进行蚀刻并获取该金属膜的蚀刻终点时间;将所述蚀刻终点时间乘以一固定比例而得到所述金属膜的过蚀刻时间;对所述金属膜继续蚀刻所述过蚀刻时间,完成对所述金属膜进行的蚀刻。还公开了一种金属蚀刻控制方...