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深沟渠元件的制作方法技术
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文档序号:8047320
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本发明公开了一种深沟渠电容的制作方法,包含:首先提供一基底包含一沟渠,然后形成一下电极于基底中并且围绕沟渠的底部,再形成一电容介电层环绕沟渠的一内侧侧壁,接着形成一第一导电层填入沟渠,之后形成一材料层于基底上,再形成一孔洞于所述材料层中,其...
该专利属于南亚科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过南亚科技股份有限公司授权不得商用。
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