下载用有机溶剂进行硅片清洗的方法的技术资料

文档序号:8043108

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本发明公开了一种用有机溶剂进行硅片清洗的方法,涉及硅片清洗技术,依次进行以下步骤:a硅片从砂浆液中取出后,立即放入50-100摄氏度的热水中超声清洗,清洗10-30分钟;b之后,硅片放入有机清洗液YB中,在温度为30-75摄氏度时进行超声清...
该专利属于安阳市凤凰光伏科技有限公司;石坚所有,仅供学习研究参考,未经过安阳市凤凰光伏科技有限公司;石坚授权不得商用。

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