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本发明公开一种用于双重曝光制作工艺的光掩模组及其形成方法。光掩模组包含一第一光掩模，其具有一第一组通孔图样，及一第二光掩模，其具有一第二组通孔图样。该第一组通孔图样包含至少两个通孔图样，沿一对角方向设置，且该两个通孔图样分别具有至少一截角。...
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