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本发明提出了进气环、进气组件、工艺腔装置和CVD设备。所述进气环包括环体，所述环体分别设有出气槽、均流槽、多个供气孔和多个导入通道，其中，所述出气槽沿所述环体的周向形成在所述环体的外周面上，所述均流槽沿所述环体的周向形成在所述环体的下表面上...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。