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公自转磁流变抛光去除廓形的优化调节方法，属于光学曲面精密加工技术领域。为优化现有公自转磁流变抛光技术中的公转去除廓形，使之满足从边缘处至回转中心处去除量单调增大的条件，本发明在现有装置基座板上，加装包含滑板、丝杠、丝杠支承座等的调节装置，通...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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