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钌膜形成用材料及钌膜形成方法技术
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文档序号:7921091
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本发明提供即使在氧等氧化剂非存在下也能容易分解的钌膜形成用材料。发明涉及一种含有下述式(1)表示的化合物的钌膜形成用材料。Ru(PR13)l(L1)m(L2)n(1)(所述式(1)中,R1各自独立地为氢原子、卤素原子、碳原子数为1~4的烃基...
该专利属于JSR株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过JSR株式会社授权不得商用。
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