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处理流体中半导体晶片的方法和装置制造方法及图纸
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下载处理流体中半导体晶片的方法和装置的技术资料
文档序号:786934
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用于使沉浸在含水漂洗槽液中的一个或多个半导体晶片干燥的过程,包括: 将密度小于水的有机干燥溶剂加入到所说槽液中以在所说槽液中形成下层含水层和上层有机层,所说晶片完全保持浸渍在所说下层含水层,及; 将所说晶片通过所说上层有机层从所...
该专利属于莱格西系统公司所有,仅供学习研究参考,未经过莱格西系统公司授权不得商用。
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