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本发明提供了用于在基板处理过程中检测等离子处理系统的处理室内原位电弧放电事件的装置。该装置包括探针装置，其置于该处理室表面并且被配置为测量至少一个等离子体工艺参数。该探针装置包括面向等离子传感器以及测量电容器，其中该面向等离子传感器被耦合至...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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