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本文介绍了一项新颖的化学和应用技术，用于处理有关微电子制造工业的污染的化学处理序列。这些有关的处理是：将有机物、微粒、金属／离子、和二氧化硅污染降至最低。一般而言，清洁比如半导体晶片之类的工件（２０）的方法是用化学流体冲洗工件表面（２０）。...
该专利属于塞米特公司所有，仅供学习研究参考，未经过塞米特公司授权不得商用。

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