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本发明关于一种清洗沉积喷出头的方法与设备，可应用于半导体的化学气相沉积机台中，藉由机台抽真空以除去沉积喷出头的外盖与其表面的尘粒；再将沉积喷出头的外盖与沉积喷出头由机台上拆下，并清除机台上用以装载沉积喷出头的区域表面的尘粒；将沉积喷出头浸入...
该专利属于华邦电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华邦电子股份有限公司授权不得商用。

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