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一种半导体处理设备的清洗方法和设备，该设备构形成与晶片携带装置（ｃ）一起使用。该清洗设备（１０）包括有第一孔（２２）和第二孔（１６）的基底部分（２４）。该基底（２４）构形成关于第一孔（２２）以密封接触的方式支承着晶片携带装置（ｃ）。设置第一...
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