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以从构图晶片除去水的方式对构图晶片进行干燥，而其构图结构部分没有塌陷或破坏。本发明的一个方面中用一种组合物进行干燥，该组合物包含超临界流体和至少一种水反应剂，该水反应剂与水化学反应形成比水更溶于超临界流体的反应产物。本发明描述了多种使用超临...
该专利属于高级技术材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过高级技术材料公司授权不得商用。

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