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一种超临界二氧化碳清洗系统，包含：一密闭高压清洗槽，形状为上宽下窄的漏斗型容器装置，提供一可乘载待清洗物件的载体平台及可活动喷嘴组的空间；一载体平台，位于该密闭高压清洗槽内，为一以该待洗物中心旋转的载体平台，并用以承载该待清洗物件；一可活动...
该专利属于财团法人工业技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过财团法人工业技术研究院授权不得商用。

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