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本实用新型公开了一种晶圆电镀前处理装置，其特征在于，包括润湿槽和抽真空装置，抽真空装置与润湿槽通过管道连通；润湿槽与储液槽通过进液管和第一回流管连通；所述第一回流管上设置有第一阀门；进液管上设置有第二阀门；润湿槽与抽真空装置之间的管道上设置...
该专利属于上海新阳半导体材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新阳半导体材料股份有限公司授权不得商用。

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