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本实用新型公开了一种基于可调变掩膜版的曝光装置,其包括:曝光机主体,设置在所述曝光机主体上的可调变掩膜版,以及与所述可调变掩膜版相连的控制系统,所述曝光机主体用于采用所述可调变掩膜版进行曝光操作;所述控制系统用于控制所述可调变掩膜版图形的变...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种基于可调变掩膜版的曝光装置,其包括:曝光机主体,设置在所述曝光机主体上的可调变掩膜版,以及与所述可调变掩膜版相连的控制系统,所述曝光机主体用于采用所述可调变掩膜版进行曝光操作;所述控制系统用于控制所述可调变掩膜版图形的变...