一种基于可调变掩膜版的曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种基于可调变掩膜版的曝光装置，其包括：曝光机主体，设置在所述曝光机主体上的可调变掩膜版，以及与所述可调变掩膜版相连的控制系统，所述曝光机主体用于采用所述可调变掩膜版进行曝光操作；所述控制系统用于控制所述可调变掩膜版图形的变化；所述可调变掩膜版用于对基板进行曝光，在基板上形成掩膜版图案。本实用新型专利技术设置了与可调变掩膜版相匹配的结构，以完成基板制作工艺中光刻胶的曝光，不同的曝光步骤中，掩膜版不需更换即可曝光，掩膜版在其正常使用寿命范围之内时也不需卸载，整个曝光装置结构简单，基板制作成本低，工艺操作简单，节省能耗。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及掩膜制造设备
，特别是涉及一种基于可调变掩膜版的曝光装置。
技术介绍
掩膜版作为转移微细图形的工具，用于掩膜制造工艺的批量复制生产，在基板生产中具有承上启下的关键作用，是显示设备产业链中不可或缺的重要环节。基板生产工艺过程中，有多少次光刻就需要多少张不同图形的掩膜版，掩膜版的数量代表了基板生产过程中采用的光刻工艺子流程的数目，减少掩膜版的数量和光刻的次数是提高成品率、缩短 制作周期、降低能耗的关键。掩膜版价格昂贵，若在掩膜版设计、制作、运输或保存等过程中有任何差错，掩膜版就无法使用，给设计者和生产者均带来很大困扰。另外，以往基板生产工艺过程中所使用掩膜版数量的减少，往往是从基板的结构和工艺简化来考虑，忽略了从掩膜制造设备本身来考虑问题。
技术实现思路
(一 )要解决的技术问题本技术要解决的技术问题是提供一种与可调变掩膜版相匹配的曝光装置，以控制调整掩膜版的曝光图形和曝光量，提高光刻工艺中的曝光质量。( 二 )技术方案为了解决上述技术问题，本技术提供一种基于可调变掩膜版的曝光装置，其包括曝光机主体，设置在所述曝光机主体上的可调变掩膜版，以及与所述可调变掩膜版相连的控制系统，所述曝光机主体用于采用所述可调变掩膜版进行曝光操作；所述控制系统用于控制所述可调变掩膜版图形的变化；所述可调变掩膜版用于对基板进行曝光，在基板上形成掩膜版图案。其中，所述曝光机主体还包括掩膜版台和基板台，所述掩膜版台上放置所述可调变掩膜版；所述基板台上放置需曝光的基板。其中，所述曝光机主体还包括光源系统，所述光源系统与所述控制系统相连，所述光源系统为所述曝光操作提供光源。其中，所述光源系统包括光源和将所述光源发出的光改变出射方向以满足曝光操作的导光系统。其中，所述曝光装置还包括掩膜版储存箱，其与所述曝光机主体相连，所述掩膜版储存箱内存储可调变掩膜版。其中，所述曝光装置还包括空调系统，所述空调系统与所述控制系统相连，所述空调系统用于控制曝光装置内处于恒温状态。其中，所述曝光机主体内还设置有监视器，所述监视器与所述控制系统相连，所述监视器用于监测和控制调整曝光操作中所述可调变掩膜版与所述基板的对位标记。(三)有益效果上述技术方案所提供的基于可调变掩膜版的曝光装置，设置了与可调变掩膜版相匹配的结构，以完成基板制作エ艺中的曝光操作，不同的曝光步骤中，可调变掩膜版不需更换即可曝光，可调变掩膜版在其正常使用寿命范围之内时也不需卸载，整个曝光装置结构简单，基板制作成本低，エ艺操作简单，节省能耗。附图说明图I是本技术实施例I中基于可调变掩膜版的曝光装置的结构示意图；图2是本技术实施例2中基于可调变掩膜版的曝光装置的结构示意图。具体实施方式以下结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进ー步详细描述。以下实施例用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。常规的掩膜版由苏打玻璃或石英材质的基板面和铬材质的图案面组成，其掩膜图案按设计要求已经预先确定，与曝光装置的控制台之间没有信息传输，当需曝光其它图形时，通过掩膜版更换器来更换掩膜版。目前，出现了ー种可调变掩膜版，该种掩膜版具有显示功能，利用显示图案对紫外(UV)光线的通过或阻断进行选择来实现掩膜版的基本功能，最終实现图形的转移。可调变掩膜板主要包括图案显示屏，用于呈现掩膜图案；控制单元，用于根据光刻エ艺中所需的掩膜图案的灰阶信息控制所述图案显示屏在不同区域的光透过量，以呈现所述掩膜图案。该种掩膜版的显示图案可以按照需要进行调节，以实现不同图形的转移。应用该种掩膜版进行阵列基板的生产，只需用一片就能完成所有基板エ艺的制作。本技术实施例所提供的曝光装置即是基于上述可调变掩膜版所设置的，下面通过两个实施例来进行其结构的描述。实施例I图I示出了本实施例中基于可调变掩膜版的曝光装置的结构示意图。本实施例曝光装置包括以下部分曝光机主体，设置在曝光机主体上的可调变掩膜版，以及与可调变掩膜版相连的控制系统；曝光机主体用于采用可调变掩膜版进行曝光操作；控制系统用于控制可调变掩膜版图形的变化；可调变掩膜版用于对基板进行曝光，在基板上形成掩膜版图案。曝光机主体上设置有掩膜版台和基板台，掩膜版台上放置可调变掩膜版，基板台上放置需曝光的基板。曝光机主体的功能就是将掩膜版上的图案精确的投射到基板上的光刻胶上，使光刻胶感光，实现光刻胶上的图案与掩膜版上的图案一致。曝光机主体上还设置有光源系统，光源系统与控制系统相连，为上述曝光操作提供光源；光源系统具体包括光源和将光源发出的光改变出射方向以满足曝光操作的导光系统。本实施例中，光源优选功率在5KW左右的水银灯，导光系统将光源发出的光引导至掩膜版台区域，通过放置在掩膜版台上的可调变掩膜版进行基板曝光。本实施例的控制系统既与可调变掩膜版相连，又与曝光机主体相连，控制系统通过其内部设定的程序控制曝光机主体按照一定运行参数运行、在特定的曝光程序和工艺参数下进行曝光操作；控制系统还用于对可调变掩膜版的曝光图案进行控制调整，以满足基板生产工艺中多步光刻工艺的需要。曝光机主体中还设置有监测器，监测器与控制系统相连，用于监测和控制调整曝光操作中可调变掩膜版与基板的对位标记。本实施例的可调变掩膜版 与上述控制系统通过信号线或红外远程信号相连，由控制系统控制调整可调变掩膜版的曝光图案。曝光装置上还设置有掩膜版储存箱，其内部存储待用的可调变掩膜版，掩膜版储存箱设置在曝光机主体外部，掩膜版储存箱通过掩膜版传送道与曝光机主体相连，可调变掩膜版通过掩膜版传送道转移至曝光机主体内，放置在掩膜版台上，以对基板台上放置的基板进行曝光。掩膜版储存箱内可储备1-2个可调变掩膜版，储存两个掩膜版时，其中一个备用，以防止意外情况出现。可调变掩膜版由间隔布置的紫外光线透过区域和紫外光线遮挡区域形成可调变掩膜版的显示图案，可由显示面板制成，该显示面板可通过液晶模式或非液晶模式来实现。本实施例中，光源系统通过信号线与所述控制系统相连，由控制系统控制光源系统所提供曝光光源的功率和曝光时间，在需要曝光光源开启对位或曝光的时候，光源才会自动打开，节省能耗并增强曝光光源的使用寿命。此外，曝光装置内还设置有空调系统，与所述控制系统相连，以保证曝光装置内处于恒温状态，优选保持在22摄氏度左右。本实施例的曝光装置通过控制系统可按需控制调整可调变掩膜版的显示图案，不需进行掩膜版更换，方便简单的同时也节省了能耗。实施例2图2示出了本实施例中基于可调变掩膜版的曝光装置的结构示意图。本实施例的曝光装置的结构与实施例I的曝光装置的结构相类似，其区别之处在于，本实施例中掩膜版储存箱设置在曝光机主体内，因为可调变掩膜版在进行不同的曝光工艺时，无需更换掩膜版即可曝光，可调变掩膜版在其正常使用寿命范围内时也不需卸载，因此存放可调变掩膜版的掩膜版储存箱可设置在曝光机主体内，精简本实施例曝光装置的结构。由以上实施例可以看出，本技术实施例设置了与可调变掩膜版相匹配的结构，以完成基板制作工艺中光刻胶的曝光，不同的曝光步骤中，掩膜版不需更换即可曝光，掩膜版在其正常使用寿命范围之内时也不需卸载，整个曝光装置结构简单，基板制作成本低，工艺操作简单，节省能耗。以上所述仅是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于可调变掩膜版的曝光装置，其特征在于，包括曝光机主体，设置在所述曝光机主体上的可调变掩膜版，以及与所述可调变掩膜版相连的控制系统，所述曝光机主体用于采用所述可调变掩膜版进行曝光操作；所述控制系统用于控制所述可调变掩膜版图形的变化；所述可调变掩膜版用于对基板进行曝光，在基板上形成掩膜版图案。2.如权利要求I所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光机主体还包括掩膜版台和基板台，所述掩膜版台上放置所述可调变掩膜版；所述基板台上放置需曝光的基板。3.如权利要求I所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光机主体还包括光源系统，所述光源系统与所述控制系统相连，所述光源系统为所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李文波，王刚，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：