专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
赫姆洛克半导体公司
>
CVD装置制造方法及图纸
>技术资料下载
下载CVD装置的技术资料
文档序号:7790922
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种用于在载体上沉积材料的制造装置和一种与制造装置一起使用的电极。制造装置包括限定腔室的外壳。外壳还限定用于将气体引入腔室的入口和用于将气体从腔室排出的出口。至少一个电极被布置穿过腔室且该电极至少部分地被布置于腔室内。电极包括具有第一端和第...
该专利属于赫姆洛克半导体公司所有,仅供学习研究参考,未经过赫姆洛克半导体公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。