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本发明涉及式I化合物，其中：R是氢或低级烷基；R1是-(CH2)n-(O)o-杂环烷基或-C(O)-杂环烷基，其中所述杂环烷基任选地被低级烷基、羟基、卤素或被-(CH2)p-芳基取代；n是0、1或2；o是0或1；p是0、1或2；R2是CF3...
该专利属于霍夫曼-拉罗奇有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过霍夫曼-拉罗奇有限公司授权不得商用。

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