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本发明公开了一种制备石墨烯的设备和方法，该设备主要包括负离子源、分析磁铁、扫描系统、样品架、束流积分仪和真空室，采用上述设备能在能量为5-30keV的范围内进行碳团簇离子在衬底中的注入，然后利用不同温度下碳在衬底中溶解度的不同，经退火处理，...
该专利属于武汉大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉大学授权不得商用。

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