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一种半导体器件的形成方法，包括：分别提供基底和压印模具，所述基底包括：绝缘层和覆盖所述绝缘层的硬掩膜层，所述压印模具至少具有第一凸台和第二凸台，且第一凸台和第二凸台具有不同的高度；使用所述压印模具对所述基底进行压印，使压印后的基底内具有与第...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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