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上海凯世通半导体有限公司
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离子注入设备制造技术
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文档序号:7682903
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本发明公开了一种离子注入设备,其包括离子束引出及传输系统以及一工件传输装置,其中该离子束引出及传输系统的数量为两个以上,该工件传输装置用于传输工件以使所有该些离子束引出及传输系统出射的离子束依次从每个工件的同一侧注入每个工件。本发明使得工件...
该专利属于上海凯世通半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海凯世通半导体有限公司授权不得商用。
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