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本发明公开了一种立式原子层沉积设备，属于原子层沉积设备技术领域。该设备包括主腔室和送片机构，送片机构设置于主腔室的外部，送片机构将硅片从主腔室外部送入到主腔室内部。该设备避免了由于送片机构的导轨磨损产生金属碎末而对成片质量造成影响。...
该专利属于嘉兴科民电子设备技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过嘉兴科民电子设备技术有限公司授权不得商用。

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