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本实用新型公开了一种可防止晶圆过反应的反应装置，包括反应槽和补水管，所述反应槽通过连接管路和厂务排放系统连接，所述补水管伸入所述反应槽内部，还包括缓冲罐、排放管和真空泵，所述缓冲罐设置于所述反应槽的下方，所述反应槽的底部开设一个排放口，所述...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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