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本发明提供了一种高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物，包括以下成分：磨料、盐、pH调节剂、螯合剂、活性剂和缓冲体系。本发明的高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物，具有如下技术效果：1）选用科学合理的缓冲体系，不盲目提高抛光组合物...
该专利属于南通海迅天恒纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南通海迅天恒纳米科技有限公司授权不得商用。

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