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本发明提供一种光学分析装置，通过降低腐蚀性气体对焦点位置修正用的基准修正构件的影响，在降低光学分析装置的测量误差的同时，解决伴随更换基准修正构件所产生的各种问题。本发明的光学分析装置包括基准修正构件(6)，该基准修正构件(6)能在位于聚光光...
该专利属于株式会社堀场制作所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社堀场制作所授权不得商用。

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