光学分析装置制造方法及图纸

技术编号:7625348 阅读:176 留言:0更新日期:2012-08-01 02:40
本发明专利技术提供一种光学分析装置,通过降低腐蚀性气体对焦点位置修正用的基准修正构件的影响,在降低光学分析装置的测量误差的同时,解决伴随更换基准修正构件所产生的各种问题。本发明专利技术的光学分析装置包括基准修正构件(6),该基准修正构件(6)能在位于聚光光学系统(3)和检测光学系统(4)之间的光路(L)上的基准位置(R)、以及从该基准位置(R)退避开的退避位置(S)之间移动,使在基准位置(R)上通过的光的焦点位置与通过位于测量位置(P)上的测量单元(5)的光的焦点位置基本相同,基准修正构件(6)的在基准位置(R)上与光路(L)相交的外表面部分(6A),由对腐蚀性气体具有耐腐蚀性的材料构成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光谱分析装置等光学分析装置
技术介绍
如专利文件I (日本专利公开公报特开2002-82050号)所示,已知现有的光谱分析装置包括光源;聚光透镜,对来自该光源的光进行聚光;光谱分析部,具有多通道检测器,对来自所述光源的光进行光谱分析;以及测量单元,设置在聚光透镜和光谱分析部之间。所述光谱分析装置的浓度测量采用吸收光谱法。通常,所述吸收光谱法通过在由校正预先得到的校准线Mi上乘以吸光度光谱Abs (Ai),计算出浓度c (参照下式)。公式IO权利要求1.一种光学分析装置,其特征在于包括聚光光学系统,对光源发出的光进行聚光;检测光学系统,设置在由所述聚光光学系统聚光后的光的光路上,对所述光进行检测;测量单元,能在位于所述聚光光学系统和所述检测光学系统之间的光路上的测量位置、以及从所述测量位置退避开的退避位置之间移动;基准修正构件,能在位于所述聚光光学系统和所述检测光学系统之间的光路上的基准位置、以及从所述基准位置退避开的退避位置之间移动,并且使在所述基准位置上通过的光的焦点位置与通过位于所述测量位置上的测量单元的光的焦点位置基本相同;以及移动机构,用于移动所述测量单元和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:横山一成有本公彦
申请(专利权)人:株式会社堀场制作所
类型:发明
国别省市:

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