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基于某些聚醚和聚酯预聚物反应混合物的聚氨酯组合物，其中该组合物用于制造化学机械抛光/平面化(CMP)垫。该CMP垫具有低回弹并可消散不规则能量以及使抛光稳定以实现衬底的改进的均匀性和较低碟形现象。...
该专利属于普莱克斯S.T.技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过普莱克斯S.T.技术有限公司授权不得商用。

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