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干膜光致抗蚀剂制造技术
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文档序号:7571824
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本发明提供干膜光致抗蚀剂,具体而言,本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺,从而防止基膜对曝光效果的不利影响,提高分辨率。另外,即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光,也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度,从而可实现高分辨率...
该专利属于可隆工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过可隆工业株式会社授权不得商用。
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