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本发明的实施例提供了用于利用来自等离子体的自由基进行金属HVPE或MOCVD的方法和装置。本发明的一个实施例提供了具有配气总成的处理室，所述配气总成被配置成生成等离子体，并且在将处理体积与等离子体的电场隔离的同时、将一种或多种自由基种供给到...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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