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一种把氧敏陶瓷材料研磨成粉末的方法，即在无污染的高能自磨机中，在无氧化作用的流体和介质存在下，用足够的时间研磨平均粒度为１至２００μｍ的氧敏陶瓷进料，由此得到一种研磨粉末，其比表面积至少为５ｍ＋［２］／ｇ，最好至少为９ｍ＋［２］／ｇ，所说介...
该专利属于金刚砂公司所有，仅供学习研究参考，未经过金刚砂公司授权不得商用。

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