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本实用新型公开一种自动双面抛磨装置，包括一基台和设置在该基台上依次并排设置的第一托料架、转盘及第二托料架；上述转盘上设有可作自转的工位，此转盘的一侧边设有一可调整移位的抛磨机构，另一侧边设有可升降及移位的驱动机构，上述第二托料架处设有一升降...
该专利属于林舜尧所有，仅供学习研究参考，未经过林舜尧授权不得商用。

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