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本发明涉及一种内射流真空均质乳化装置，可将被乳化物料的分散相颗粒平均直径缩小到１－２微米。其增速均质器位于真空乳化罐底部中央，上端与内射流乳化反应器相连，两者内部相通。增速均质器转子的转轴下端与变速电机相连中，低速刮壁搅拌器的转轴穿出真空乳...
该专利属于南京市日用化学工业研究所所有，仅供学习研究参考，未经过南京市日用化学工业研究所授权不得商用。

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