本实用新型涉及一种内射流真空均质乳化装置，可将被乳化物料的分散相颗粒平均直径缩小到１－２微米。其增速均质器位于真空乳化罐底部中央，上端与内射流乳化反应器相连，两者内部相通。增速均质器转子的转轴下端与变速电机相连，低速刮壁搅拌器的转轴穿出...

本发明涉及一种内射流真空均质乳化装置，可将被乳化物料的分散相颗粒平均直径缩小到１－２微米。其增速均质器位于真空乳化罐底部中央，上端与内射流乳化反应器相连，两者内部相通。增速均质器转子的转轴下端与变速电机相连中，低速刮壁搅拌器的转轴穿出真...