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本发明公开了一种制作大高宽比光子筛的方法，该方法包括：制作光子筛掩模版和光学套刻掩模版；利用光子筛掩模版做掩模做X射线复制得到第一复制掩模版；利用第一复制掩模版再次做X射线复制得到第二复制掩模版；利用光学套刻掩模版做掩模，对第二复制掩模版的...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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