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等离子体CVD装置、等离子体电极以及半导体膜的制造方法制造方法及图纸
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文档序号:7366638
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在构成等离子体CVD装置(40)的等离子体电极(30)时,设置:设置有工艺气体导入孔(第2工艺气体导入孔(21a))的主电极部(21)、和安装于主电极部的端部并在与该主电极部之间形成气体扩散空间(DS)的气体喷板部(23),在气体喷板部中形...
该专利属于三菱电机株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱电机株式会社授权不得商用。
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