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本发明提供一种具有预图案化表面特征的磁记录盘及其平坦化方法。磁记录盘具有高企的槽脊和凹陷的槽构成的表面特征。化学机械抛光(CMP)停止层沉积在槽脊上和凹陷部中。粘合膜例如硅沉积在CMP停止层上，含有硅氧化物(SiOx)的填充材料沉积在粘合膜...
该专利属于日立环球储存科技荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过日立环球储存科技荷兰有限公司授权不得商用。

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